Producătorul japonez de produse chimice JSR, care reprezintă aproximativ o cincime din piața globală de fotoreziste, intenționează să construiască prima sa unitate de producție în Taiwan și să colaboreze cu TSMC pentru a dezvolta fotoreziste avansate.Compania a format un joint venture cu o firmă din Taiwan la începutul lunii aprilie și intenționează să înceapă producția încă din 2028, cu o investiție de zeci de milioane de dolari.
Fabrica ar ajuta JSR să reducă un decalaj față de cei doi rivali mari japonezi de pe piața din Taiwan.Tokyo Ohka Kogyo Co. (TOK) și Shin-Etsu Chemical Co. operează deja unități de producție în Taiwan și lucrează direct cu TSMC la dezvoltarea fotorezistenței.
Fotorezistul este un material sensibil la lumină utilizat în litografie pentru a transfera modele de circuite pe plăci de siliciu.La nodurile de proces avansate, fotorezistele trebuie reglate cu precizie pentru a funcționa cu echipamente specifice de litografie și chimii de gravare.Acest reglaj necesită o comunicare repetată între furnizorii de fotorezist și turnătorii.
JSR dezvoltă în prezent produse pentru clienții taiwanezi prin livrarea de mostre de la unitățile sale din Japonia, Statele Unite și Belgia, fiecare călătorie dus-întors poate dura câteva săptămâni.Acest lucru încetinește procesul de iterare, în timp ce concurenții săi se pot deplasa mai repede de la bazele de producție locale.Construirea unei fabrici în Taiwan ar permite inginerilor JSR să lucreze mai strâns cu echipele de cercetare și dezvoltare ale TSMC, un model deja folosit de TOK și Shin-Etsu Chemical.Pe lângă fotoreziste, JSR are în vedere și producerea altor materiale la instalația din Taiwan, inclusiv abrazivi folosiți pentru netezirea substraturilor semiconductoare.
Expansiunea JSR în Taiwan face parte dintr-un plan de creștere mai larg.Compania construiește, de asemenea, prima unitate de producție în masă din lume pentru rezistențe de oxid de metal, sau MOR, în Coreea de Sud.Se așteaptă ca fabrica să înceapă producția de masă în 2026 și va furniza MOR pe bază de staniu pentru litografia EUV către Samsung Electronics și SK Hynix.
În comparație cu rezistențele amplificate chimic convenționale utilizate în nodurile de proces mai vechi, MOR poate absorbi fotonii EUV mai eficient, permițând o rezoluție mai mare și mai puține defecte de model.JSR a achiziționat Inpria, un pionier în tehnologia MOR, în 2021 și de atunci a dezvoltat formulări pe bază de oxid de staniu.De asemenea, compania intenționează să vândă MOR către TSMC, poziționându-se pentru liniile de producție EUV de următoarea generație și High-NA EUV necesare pentru nodurile de proces de 2 nm și mai avansate ale TSMC.
Companiile japoneze reprezintă împreună aproximativ 80% din piața globală de fotoreziste și domină aproape complet segmentul EUV de ultimă generație.Companiile chineze au făcut progrese în ceea ce privește fotorezistele KrF și i-line, dar penetrarea lor pe piață în ArF și categorii mai avansate rămâne foarte scăzută.
„Companiile chineze reprezintă o amenințare, dar le va dura ceva timp să ne ajungă din urmă și să preia cota de piață”, a declarat Toru Kimura, un director executiv responsabil de afacerile JSR cu materiale electronice.Strategia JSR pare să vizeze menținerea liderului prin construirea de relații de co-dezvoltare în zonele cele mai solicitante din punct de vedere tehnic ale pieței.